Extrusion Asia Edition 1-2016

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Extrusion Asia Edition 1/2016
滑，能够持续地保持转子的稳定，从而
保证了性能的可靠。在额定转速时，泵
的能耗很低，冷却水消耗量也很低(1
l/min)，这也是新型ATH-M泵的特色。
n Innovative Vacuum Solutions:
Pfeiffer Vacuum exhibited at the Semi-
con Korea Trade Fair and Semicon China.
A4 series of dry pumps :
The dry, multi-stage Roots pumps in the
A4 series provide pumping speeds of 100
n 普发真空（Pfeiffer）将参加Semicon
（半导体展览会）韩国贸易展览会和
Semicon中国展。
A4系列干燥泵：
A4系列干式多级罗茨泵可提供的抽气速
率范围是100到2,300 m3/h 。这种高能
效和高可靠的泵能够完美地满足半导体
行业和涂料行业工艺的需求。例如，这
一系列的泵涂有防腐蚀涂层并具备高抽
气速率，非常适合于化学气相沉
积（CVD）工艺的需求。
涡轮泵HiPace 2800 IT：
普发真空展示的HiPace 2800 IT
涡轮泵是特别为离子注入应用而
特制的。采用了复杂的涡轮泵转
子设计，从而得到了最出色的轻
质气体抽气速率。这样，对离子
注入过程非常良好的工艺适应性
就有了保证，这里氢是最易累积
的气体。当氢气的抽气速率为
2,750 l/s时，新型HiPace 2800 IT
涡轮泵是这一等级最好的产品。
智能的温度管理系统，有效
防止了泵抽吸系统内部工艺冷凝
和沉积。可以独立地设定温度以
最好地辅助工艺过程。转子涂有
特殊涂层，对于所有离子注入工
艺材料，涂层的牢固性都是有保
证的。Hipace涡轮泵有着特殊坚
固的轴承设计，以被称为“动静压
轴承”的部件为基础部件，并在真
空侧前部采用陶瓷球轴承，在位
于高真空侧采用永磁向心球轴
承。再加上有效的涂层，这些就
构成了涡轮泵使用寿命长和正常
运行时间最大化的基础。
磁悬浮涡轮泵ATH 2804 M
和 ATH 3204 M：
ATH-M系列泵适合用于未
加热的氮气，气体通过量超过
5,000 标准毫升/分（sccm）。
它同样有着非常高的氩气气体通
过量，达1,500 sccm。当应用于
腐蚀场合时，泵的工作温度为
65 °C。最挑战性的应用是带有
副产品沉积物的敏感工艺应用，
此时泵的工作温度可高达85 °C
。这些泵都配备了集成驱动电路
以保证碳足迹更小，并且可以即
插即用，易于安装。DN320法兰
型号的泵，总高度小于400mm
。由于采用新型电子电路，泵可
以在8分钟内启动和停止。ATH-
M泵采用磁悬浮轴承和失衡自动
补偿，因此运行无磨损且振动很
小。这种泵免维护，不需要润
创新的真空设备
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quantec® 85 G3-14 C
Hall W1
Stand M41
10:11
普发真空生产的磁悬浮涡轮泵ATH
2804 M
Magnetically levitated turbopumps
ATH 2804 M from Pfeiffer Vacuum